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電阻式蒸發鍍膜機簡介

作者: 时间:2018-02-26 点击数:

電阻式蒸發鍍膜機照片

設備名稱

電阻式蒸發鍍膜機

設備簡介

該設備用于真空蒸發鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜。

技術參數

1.真空室:400*400*450mm方箱形;

2.最大可鍍工件直徑:φ120mm,;

3.樣品台可旋轉0-60轉/分可調,蒸發距離250~350mm連續可調,樣品台配獨立擋板;

4.樣品加熱系統,溫度最高可達600℃,外加一套水冷樣品台;

5.極限真空度:優于6.67*10-5Pa;

6.抽氣時間:大氣壓~8*10-4Pa小于30min;

7.蒸發:4套蒸發源配3套2KW電源(其中一套可切換),

8.開啓方式:前面開啓門設計,便于換絲及裝料;

9.真空系統:機械泵+分子泵;

    10.膜厚测量仪

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